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1500℃开启式立式管式炉

更新时间：2020-11-20

浏览量：1640

开启式立式管式炉1500℃ 设备简介：立式管式炉采用炉管垂直放置、炉膛加热丝环形分布的结构设计，可应用于小型钢件的淬火、退火、回火热处理，以及立式CVD镀膜等。设备可在气氛状态、真空状态下运行，也可作为普通管式炉使用，适用于高校实验室及科研院所等单位
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1200℃三聚氯胶管式炉

更新时间：2021-03-06

浏览量：1324

1200℃三聚氯胶管式炉采用轻质陶瓷纤维精制炉腔，由两个半圆形炉体合成，开启方便，专门设计用于对物料需要预抽真空条件下进行烧结；加热速率快，耐高温、抗氧化、耐腐蚀、升温快；智能PID30段控温，控温精度高适用范围：主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，三聚氛胺、尿素等化学实验的烧结分析，晶体硅基板镜膜，金属材料扩散焊接以
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1600℃三温区高温管式炉

更新时间：2021-03-06

浏览量：1885

三温区高温管式炉三个数字温度控制器可独立控制温度，并可设置30段升降温程序，温区1（加热区中心）采用硅碳棒加热，另外两个温区用硅钥棒进行加热，
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1600℃双温区高温气氛管式炉

更新时间：2020-11-20

浏览量：1256

1600℃双温区高温气氛管式炉以硅钼棒为发热元件；双层风冷结构；高纯氧化铝纤维真空吸附一次成型；30段可编智能控制（可外接远程控制）;加热区长度660mm;可通气氛及抽真空，炉体采用双层壳体结构，并带有风冷系统，使得壳体表面的温度小于60度，炉腔保温材料采用高纯氧化铝多晶纤维，减少热量的损失，内炉腔表面涂有高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率，同时也可以延长仪器的使用寿命。
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1200℃五温区开启式管式炉

更新时间：2020-11-20

浏览量：1234

1200℃五温区开启式管式炉采用智能化程序温控系统，可控硅控制，控温精度高；双层炉壳间配有风冷系统，有效降低外壳表面温度；开启式炉盖设计，可在高温情况下观察物料反应情况并实现迅速降温；真空级法兰密封，结合我司标准真空、混气系统，可抽真空通气氛；内置五个加热温区，可以营造不同的温度梯度。
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1200℃小型开启式真空管式炉

更新时间：2020-11-20

浏览量：1313

1200℃小型开启式真空管式炉采用智能化程序控温系统，可控硅控制，控温精度高；双层壳体结构，设计合理，外形美观，结构紧凑；双层炉壳间配有风冷系统，有效保证外壳表面温度；真空级法兰密封，结合我司标准真空、混气系统，可抽真空通气氛。
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1400℃三温区管式炉

更新时间：2021-03-06

浏览量：1189

1400℃三温区管式炉采用智能化程序温控系统，可控硅控制，控温精度高；高真空级法兰密封，结合我司标准真空、混气系统，可抽真空通气氛；以优质硅碳棒为加热元件，采用智能化控温系统，可控硅控制，控温精度高；炉腔采用日本技术真空吸附成型的优质1600型氧化铝多晶体纤维无机材料拼搭结构，长期使用不断裂、垮塌；炉体为双层炉壳，配有风冷系统，有效保证外壳表面温度；内置三个温区，可营造不同的温度梯度。
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1700℃精密真空气氛管式炉

更新时间：2020-11-20

浏览量：1265

1700℃精密真空气氛管式炉采用触摸屏控制系统，一键智能化操作，图文界面操作更便捷；高真空级法兰密封，结合我司标准真空、混气系统，可抽真空通气氛。适用于高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等。
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